課程代碼 | 101124A0024 | 上課學制 | 研究所碩士班 | 課程名稱 | 半導體與光電機械設計
Mechanical Design of Semiconductor and Optoelectronics | 授課教師 (師資來源) | 王英郎(電子物理學系) | 學分(時數) | 3.0 (3.0) | 上課班級 | 電物光電碩1年甲班 | 先修科目 | | 必選修別 | 選修 | 上課地點 | 電物二館 A18B-501 | 授課語言 | 國語 | 證照關係 | 無 | 晤談時間 | | 課程大網網址 | https://web085004.adm.ncyu.edu.tw/Syllabus/Syllabus_Rpt.aspx?CrsCode=101124A0024 | 備 註 | |
◎系所教育目標: 本系所之發展方向以光電科學與固態電子為主,在紮實的學術研究基礎下,並與產業界積極合作,發展前瞻性學術研究及技術開發。
本系研究團隊分成兩大主軸,彼此相互連結,兩大主軸分別為:
(一)光電科學:太陽能電池、液晶光學、非線性光學、光學薄膜、光學設計、光電元件、光纖光學、雷射光學、生醫光電。
(二)固態電子:量子元件、表面及介面科學、磁性薄膜、奈米電子、自旋電子學、半導體薄膜、半導體奈米製程或元件模擬、TFT製程或設計。 | ◎核心能力 | 關聯性 | 1.培養應用物理知能 | 4 關聯性稍強 | 2.培養光電科學知能 | 4 關聯性稍強 | 3.培養固態電子知能 | 4 關聯性稍強 | 4.培養實驗技能 | 3 關聯性中等 | ◎本學科學習目標: 1. 了解積體電路製程的發展與演進
2. 半導體產業與工作經驗分享
3. 學校基礎科學應用延伸 | ◎教學進度: | 週次 | 主題 | 教學內容 | 教學方法 | 01 09/21 | 課程簡介與溝通 | 學期課程簡介, 評分標準, 參考書籍 | 講授。 | 02 09/28 | 積體電路製程簡介 | 積體電路製程的發展與演進 | 講授、討論。 | 03 10/05 | 矽晶圓製造簡介 | 如何從矽砂冶鍊電子級矽單晶, 及其矽晶圓製造流程 | 講授、討論。 | 04 10/12 | 半導體工廠之廠務與污染防治 | 半導體工廠廠務相關內容與化學污染防治 | 講授、討論。 | 05 10/19 | 氧化與離子佈植製程簡介 | 矽晶圓氧化製程與離子佈植製造流程 | 講授、討論。 | 06 10/26 | Problem Solving Procedure | 如何解決問題及其基本流程 | 講授。 | 07 11/02 | 乾式蝕刻製程簡介 | 積體電路製程中, 乾式蝕刻理論與應用 | 講授。 | 08 11/09 | 濕式蝕刻製程簡介 | 積體電路製程中, 濕式蝕刻理論與應用 | 講授。 | 09 11/16 | 工程資料分析法 | 田口分析法/ 一般統計分析手法 | 講授。 | 10 11/23 | 期中考 | 期中考 | 期中考。 | 11 11/30 | 微影技術 /製程簡介 | 積體電路製程中, 黃光製程理論與應用 | 講授、討論。 | 12 12/07 | 半導體製程中晶片與缺陷檢測 | 晶片生產良率與缺陷簡介 | 講授、討論。 | 13 12/14 | 物理濺鍍沉積法 | 積體電路製程中, 物理濺鍍理論與應用 | 講授、討論。 | 14 12/21 | 化學氣相沉積法 | 積體電路製程中, 化學氣相沉積理論與應用 | 講授、討論。 | 15 12/28 | 電化學電鍍製程 | 積體電路製程中, 電化學電鍍理論與應用 | 講授、討論。 | 16 01/04 | 化學機械拋光研磨法 | 積體電路製程中, 化學機械拋光研磨理論與應用 | 講授、討論。 | 17 01/11 | 後段製程整合 | 積體電路製程中, 後段製程整合的問題與挑戰 | 討論。 | 18 01/18 | 期末考 | 期末考 | 期末考。 | ◎課程要求: 評量方式
期中考(50%) + 期末考(50%)
報告與課堂為評量加分 | ◎成績考核 期中考50% 期末考50% | ◎參考書目與學習資源 半導體 製程技術概論 修訂版, Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology, Hong Xiao 著, 羅正忠 張鼎張 譯 |
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